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北京坤星元科技有限公司成立于2014年,是一家專業生產以多材質、高純度PVD濺射靶材、金屬粉末和蒸發鍍膜材料的專業技術創新企業。公司本著專業、優質、高效的經營理念,經過多年來逐步發展成為一家極具競爭力和創造力的新型公司,憑借自身優質產品,專業的服務以及良好的商業信譽,成為眾多企業及科研單位指定的材料提供商。


公司廠區環境優美,生產車間環境完全按照ISO質量體系標準條件建設,公司目前擁有多臺/套先進自動化生產機器、各類型檢驗檢測儀器設備,可根據您的需求提供各種尺寸、不同純度金屬、合金靶材以及金屬粉末,年生產能力可達到100+噸靶材加工。公司始終堅持以優良的服務質量,嚴格、有效的質量管理體系,全方位保證我司產品優質、安全,達到客戶滿意度,我們產品遠銷至德國、日本、臺灣等國家和地區以及包括國內科研軍工、新科技公司等多家企事業單位。

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根據您的需求提供各種尺寸、不同純度金屬、合金靶材,年生產能力可達到100噸靶材加工。

 

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質量保證

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專業化、定制化、高端化、智能化

嚴格執行貫徹ISO9001:2015質量管理標準

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技術實力

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精心制造,提供優質產品;及時交貨,保證客戶滿意

 

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鉻靶 Chromium target

公司生產的鉻靶材采用先進的熱等靜壓(HIP)工藝生產,產品包括矩形靶、圓弧靶、環形靶和大長徑比整體成形管靶等類型,具有純度和密度可控、晶粒細小均勻、使用壽命長等優點。Ourchromiumtargetincludingrectangulartarget,arctarget,ringtargetandlargeaspectratiointegralformingtubetargetismanufacturedbyhotisostaticpressingtechnologyandhastheadvantagesofcontrollablepurityanddensity,fineanduniformgrainsizeandlongservicelife.?鉻靶Chromiumtarget性能Productperformance純度/%Purity?????99.599.95密度/g/cm3Density??????≥7.12≥7.12晶粒度/μmGrainsize??????≤100≤100金屬雜質總和/ppmTotalcontentofmetallicimpurities???????≤5000≤500熱導率/W/m.KThermalconductivity??????60100熱膨脹系數/1/KCoefficientofthermalexpansion????????8×10-68×10-6規格尺寸/mmSize平面靶Planartarget≤1500×500≤1500×500旋轉靶Rotatingtarget熱等靜壓整體成形IntegralformingbyHIP長度Length≤2000厚度Thickness≤15熱等靜壓整體成形IntegralformingbyHIP長度Length≤2000厚度Thickness≤152N5??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤1500≤1200≤1500≤200≤50≤1400≤300測試值(Testvalues)98030060062501200200??2N8??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤800≤300≤400≤200≤50≤1000≤100測試值(Testvalues)7407892845034030??3N??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤500≤100≤150≤150≤30≤500≤100測試值(Testvalues)2904780902845050?3N5??微量元素(Traceelements)PPM??≥7.12g/cm3成分鐵(Fe)鋁(Al)硅(Si)銅(Cu)鎳(Ni)碳(C)硫(S)氧(O)氮(N)標準(Standard)≤100≤50≤50≤10≤50≤50≤30≤150≤80測試值(Testvalues)504540710242713730?附上鉻矩形靶、圓弧靶和環形靶照片

鉻管靶 Chromium tube target

鉻管靶可加工成熱等靜壓(HIP)整體成型鉻管靶和噴涂鉻管靶,兩種鉻管靶相比,熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、致密度高、鍍膜均勻致密質量好等優點,缺點成本較高。Comparedwiththesprayingchromiumtubetarget,theintegralformingchromiumtubetargetbyHIPhastheadvantagesoflowoxygencontent,highdensity,uniformandcompactcoatingandsoon.?性能Productperformance噴涂鉻管靶材Sprayingchromiumtubetarget熱等靜壓整體成形鉻管靶材IntegralformingchromiumtubetargetbyHIP氧含量/ppmOxygencontent≤500080-1500鍍膜均勻性Depositionuniformity1.????整管軸向致密度相差較大2.????整爐上中下L、A、B值相差較大3.????無法保證產品膜層的一致性1.????Thedensityofthetubetargetalongtheaxialisdifferent.2.????ThevalueofL,AandBisdifferentinthewholefurnace.3.????Theconsistencyoftheproductfilmcannotbeguaranteed1.????整管均勻性高2.????密度接近于純金屬熱擠壓密度,管材通體密度一致3.????無松散區、無暗區4.????PVD膜層的厚度及顏色的一致性好5.????整爐上中下L、A、B值統一性好1.????Highuniformityofthewholetube2.????Thedensityofthewholetubetargetisclosetohotextrusiondensityandisconsistent3.????Nolooseareaanddarkarea4.????TheconsistencyofthethicknessandcolorofthePVDfilmisgood4.????ThevaluesofL,AandBinthewholefurnacearegood.5.????ThevalueofL,AandBisconsistentinthewholefurnace.鍍膜電流密度Depositioncurrentdensity無法實現大電流長時間工作Cannotworkforalongtimeatlargecurrent大功率長時間穩定工作Cansteadilyworkforalongtimeunderhighpower??附上鉻管靶照片(1張照片)

氧化鈮靶 Niobium oxide target

公司生產的氧化鈮靶材采用先進的真空熱壓、熱等靜壓和熱噴涂工藝生產,產品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。Ourniobiumoxidetargetincludingrectangulartarget,arctargetandtubetargetismanufacturedbyhotisostaticpressing,hotpressing,andthermalsprayingtechnology.OurniobiumoxidetargetbyHIPhasbeenappliedforChineseinventionpatentwithindependentintellectualpropertyrights.ThepatentnumberisCN105734506A.??氧化鈮靶Niobiumoxidetarget性能Productperformance化學成分/at%CompositionNb2Ox,x=4.5~4.8純度/%Purity99.99密度/g/cm3Density≥4.5晶粒度/μmGrainsize≤5金屬雜質總和/ppmTotalcontentofmetallicimpurities≤100電阻率/Ω.cmResistivity5×10-4規格尺寸/mmSize平面靶Planartarget熱等靜壓/熱壓,≤500×250Hotisostaticpressing/Hotpressing旋轉靶Rotatingtarget熱噴涂成形thermalspraying長度Length≤4000厚度Thickness≤10

六硼化鑭 Lanthanum boride

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靶材如何應用于微電子領域?靶材廠家為你介紹!
北京坤星元科技有限公司
靶材廠家介紹,靶材的技術發展趨勢與下游應用行業的薄膜技術發展趨勢密切相關。隨著應用行業中薄膜產品或組件的技術改進,目標技術也應發生變化。靶材廠家介紹,集成電路制造商致力于開發低電阻率銅布線,預計在未來幾年內將大大取代原有的鋁膜,因此開發銅靶及其所需的阻擋靶將是迫切的。
靶材的制造工藝是怎樣?靶材廠家為你介紹!
北京坤星元科技有限公司
靶材的制造工藝是怎樣?靶材廠家為你介紹!   1)磁控濺射的原理:靶材廠家介紹,在濺射靶(陰極)和陽極之間施加正交的磁場和電場,并在高真空室中充入所需的惰性氣體(通常為Ar氣)。永磁體在靶材表面形成250 ~ 350高斯的磁場,與高壓電場形成正交電磁場。
靶材廠家一文介紹靶材
北京坤星元科技有限公司
靶材廠家介紹,鍍膜靶材是濺射源,其通過磁控濺射、多弧離子鍍或其它類型的涂層系統在適當的工藝條件下在基底上形成各種功能膜。簡單來說,它就是被高速帶電粒子轟擊的靶材,用于高能激光武器
靶材廠家告訴你靶材的作用是什么?結構組成
北京坤星元科技有限公司
  靶材廠家告訴你靶材的作用是什么?結構組成   靶材廠家告訴你靶材又稱濺射靶材,是制備薄膜的主要通過研究分析物品科學技術方法之一。雖然它不像光刻膠那樣廣為人知,但它同時也是這樣一個芯片進行設計制造公司生產經營程序中需求我們國家不可缺少的物品。

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